立式扩散炉 | 扩散炉 | 闭管软着陆扩散系统 | 微控扩散炉 | LPCVD | LED专业设备 | 链(带)式烧结炉 | 真空炉 | 芯片处理专用设备
设备主要特点
◆ 串级控温系统,恒温区高精度
◆ 具有高抗干扰能力
◆ 具有多种工艺管路,可供用户随意灵活配置
★ 支持SECS/GEM通讯
主要技术指标
◆ 可配工艺管数量:1~5管/台
◆ 工作温度范围:200~1000℃
◆ 恒温区长度:300~11000mm
◆ 单点温度稳定性:±1℃/24h
◆ 最大可控升温速度:15℃/min;
◆ 最大降温速度:3℃/min
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