立式扩散炉 | 扩散炉 | 闭管软着陆扩散系统 | 微控扩散炉 | LPCVD | LED专业设备 | 链(带)式烧结炉 | 真空炉 | 芯片处理专用设备
主要技术指标
◆ 真空室工位:1〜4工位
◆ 工作温度:200℃〜1000℃
◆ 控温精度:≤±1℃
◆ 恒温区长度:≥1000mm(恒温区长度可定制)
◆ 真空度:1.33×10-¹Pa〜1.33×10-³Pa
◆ 工作室内径:φ350mm(工作室内径可定制)
◆ 工作方式:自动、手动
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